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半導體工藝(四) 半導體電路圖形的完成“刻蝕工藝”

作者:SMT設備 瀏覽量: 來源:網(wǎng)絡 時間:2022-08-20

信息摘要:

大家在學生時代的美術課上創(chuàng)作過的“版畫”是一種通過在木材、金屬或石材的表面上繪制形狀,然后涂上墨水或顏料印在紙或布上的繪 畫形式。刻蝕工藝與這種版畫的刻蝕 (Etching)技術有著相似的原理。繪畫中的刻蝕技術是指在銅板上涂抹防止酸產(chǎn) 生化學反應的防腐蝕劑,然后利用鋒利的工具 刮削,露出銅板的過程,然后再將銅板放入腐 蝕液(稀硝酸)中,控制其腐蝕程度從而產(chǎn)生圖形。干法刻蝕過程中的注意事項第一,維持

半導體工藝(四) 半導體電路圖形的完成“刻蝕工藝”

大家在學生時代的美術課上創(chuàng)作過的“版畫”是一種通過在木材、金屬或石材的表面上繪制形狀,然后涂上墨水或顏料印在紙或布上的繪 畫形式??涛g工藝與這種版畫的刻蝕 (Etching)技術有著相似的原理。 繪畫中的刻蝕技術是指在銅板上涂抹防止酸產(chǎn) 生化學反應的防腐蝕劑,然后利用鋒利的工具 刮削,露出銅板的過程,然后再將銅板放入腐 蝕液(稀硝酸)中,控制其腐蝕程度從而產(chǎn)生圖形。

半導體工藝(四) 半導體電路圖形的完成“刻蝕工藝”(圖1)

干法刻蝕過程中的注意事項

第一,維持一致性(Uniformity)。一致性是指刻 蝕的速度在晶圓上的各個部位“有多相同”在 工藝進行的過程中,一定時間下,不同的晶圓部位刻蝕的速度不同,形成的形狀也可能不同,所以可能會導致位于某些部位的芯片發(fā)生不良現(xiàn)象或其特性發(fā)生變化。

第二,刻蝕速度(Etch Rate)。它意味著在一定時間內(nèi)可以去除多少薄膜??涛g速度主要取決于表面反應所必需的反應性原子和離子的數(shù)量以及離子的能量,所以提高對這些因素的控制能力就可以提高總收益率。此外,選擇性(Selectivity)、形狀(Profile)等也是干式刻蝕的重要因素。

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