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英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述

作者:SMT設(shè)備 瀏覽量: 來源:網(wǎng)絡(luò) 時(shí)間:2023-01-05

信息摘要:

本文主要參考文獻(xiàn)為:Thermo-compression Bonding for Fine-pitch Copper-pillar Flip-chip Interconnect – Tool Features as Enablers of Unique Technology前言如前文所述,封裝路線的方向一直在向高性能輕薄化演進(jìn),為封裝行業(yè)帶來了全新的挑戰(zhàn)和機(jī)遇。英特爾公司選擇了基于基板(Subst

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述

本文主要參考文獻(xiàn)為:Thermo-compression Bonding for Fine-pitch Copper-pillar Flip-chip Interconnect – Tool Features as Enablers of Unique Technology

  1. 前言

如前文所述,封裝路線的方向一直在向高性能輕薄化演進(jìn),為封裝行業(yè)帶來了全新的挑戰(zhàn)和機(jī)遇。英特爾公司選擇了基于基板(Substrate)的TCB(Thermal Compression Bonding 熱壓鍵和)工藝以替代傳統(tǒng)的回流焊(Reflow)。該設(shè)備為英特爾和ASMPT公司聯(lián)合開發(fā),并于2014年導(dǎo)入量產(chǎn),該設(shè)備有著極高的加工精度及豐富的可擴(kuò)展性,不但可用于基板級(jí)封裝,還可用于晶圓級(jí)封裝,這就為英特爾在之后數(shù)年推出EMIB,F(xiàn)overos等先進(jìn)封裝方式打下了扎實(shí)基礎(chǔ)。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖1)

圖1. 英特爾的Co-EMIB MCP (Multi-Chip-Package)封裝產(chǎn)品

 

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖2)

圖2 英特爾的Foveros封裝(芯片堆疊工藝)

我們將會(huì)先從英特爾為什么要引入TCB,從它前一代的技術(shù)回流焊遇到了什么樣的挑戰(zhàn)開始,然后介紹TCB的工藝細(xì)節(jié),設(shè)備細(xì)節(jié)以及量產(chǎn)應(yīng)用中的優(yōu)化。最后再談?wù)劰P者自己的看法。

  1. 回流焊工藝及其挑戰(zhàn)回顧

典型的倒裝回流焊如圖3所示:將芯片上的BUMP先浸蘸助焊劑,并貼在基板上。在進(jìn)入回流爐前,助焊劑的粘性可將芯片軟性固定,以防止其位置偏移,之后進(jìn)入回流爐。在特定的升溫降溫(溫度曲線如圖4)下,凸點(diǎn)焊球會(huì)熔化為液態(tài),在潤(rùn)濕銅微柱的過程中基于表面張力使得芯片回流對(duì)位,最后在降溫作用下變成固相連接。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖3)

圖3 芯片貼裝流程 Flux Film: 助焊劑層,F(xiàn)lux Pot: 助焊劑容器,F(xiàn)lux Dipping: 助焊劑浸蘸, Position Flip chip on the substrate: 將芯片倒置對(duì)準(zhǔn)基板上, Place Flip chip onto substrate: 將芯片放置于基板上,Reflow:回流焊,Flip chip soldering completed: 完成芯片倒裝焊

 

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖4)

圖4 標(biāo)準(zhǔn)的回流焊曲線

  1. TCB 工藝介紹

但是由于超薄產(chǎn)品的引入,回流焊的缺陷率就開始增加如圖5所示:翹起,非接觸性斷開,局部橋接等?;亓骱傅牧硗庖粋€(gè)不足在于,芯片的位置容易發(fā)生偏移,一是料盤/載具在傳輸過程中受震動(dòng)影響,二是回流過程中芯片的自由偏移。焊接凸點(diǎn)間距(Pitch)越小,芯片尺寸越大,則偏移失效越嚴(yán)重。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖5)

圖5 回流焊流程中的各種缺陷

正是由于以上回流焊中的缺陷率越來越高,英特爾引入了TCB工藝。具體流程為:1, 基板(Substrate)在涂覆Flux后,被真空吸附固定在定制的加熱板上。2,貼片頭(BondHead)吸起芯片(Die),芯片在真空吸附下平整的貼合吸頭(Nozzle)之下。3,光學(xué)相機(jī)輔助定位,基板所在的解熱板位置微移,與芯片完成對(duì)位。4,BondHead向下運(yùn)動(dòng),直到接觸到基板的時(shí)候停止。5,Bondhead加載一個(gè)壓應(yīng)力,同時(shí)芯片會(huì)被快速加熱直至錫球熔化溫度。6,在錫球熔化的一刻,BondHead會(huì)將芯片繼續(xù)向下走微小的距離,以確保所有的凸點(diǎn)能夠連接。7,芯片在該高度保持?jǐn)?shù)秒,確保錫球完全熔化浸潤(rùn)芯片和基板上的連接點(diǎn)。8,之后在熔融狀態(tài)下,BondHead向上提升一定的高度,以得到預(yù)期的焊接高度。9,最后,BondHead快速降溫,錫焊變?yōu)楣滔?。Bondhead釋放真空,回到待機(jī)位置。

在整個(gè)過程中,TCB會(huì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)BondHead的溫度(Temperature),吸頭的應(yīng)力( Bond Force)和Z方向的位移 (Bond Head Z Postion),其曲線如圖6所示。整個(gè)焊接過程不超過4秒。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖6)

圖6 TCB 焊接過程中曲線圖

在TCB焊接過程中,錫球(Solder Ball)由固態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)的一步非常關(guān)鍵,會(huì)相應(yīng)觸發(fā)BondHead由應(yīng)力控制轉(zhuǎn)為位置控制。另外一個(gè)有趣的現(xiàn)象就是錫球液化后的表面張力的影響,在壓力曲線上會(huì)產(chǎn)生負(fù)值。由于該效應(yīng)比較微弱,很容易與其他失效混淆,增加了信號(hào)識(shí)別難度。

  1. TCB設(shè)備細(xì)節(jié)詳述

    英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖7)

TCB 設(shè)備外觀

TCB設(shè)備的心臟是貼片頭(Bond Head),由線性伺服馬達(dá)(Linear Servo Motor)驅(qū)動(dòng)空氣軸承(Air Bearing)運(yùn)動(dòng),如圖7所示。有賴于高精度的伺服系統(tǒng)以及無摩擦的空氣軸承導(dǎo)軌,垂直方向的運(yùn)動(dòng)精度可以控制在1um以內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)錫球熔化過程下的微移動(dòng)的精準(zhǔn)控制。

貼片頭配備了應(yīng)力控制單元(Force Sensor),快速升降溫脈沖加熱器(Pulse Heater),還配備了一套主動(dòng)傾斜控制系統(tǒng)(Active Tip Tilt,專利號(hào)US8387851B1)。

主動(dòng)傾斜控制系統(tǒng)(Active Tip Tilt)可以精確調(diào)節(jié)脈沖加熱器的共面度,使其與基板(Substrate)所在的加熱板(Hot Pedestal)的表面完美貼合,在22mm x 33mm的區(qū)域內(nèi),可使上下兩個(gè)平面共面間距不超過3um,幾乎可以消除芯片翹起相關(guān)的失效。

壓力傳感器(Force Sensor)與壓力傳動(dòng)方向同步,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)貼片頭在垂直方向運(yùn)動(dòng)中的應(yīng)力反饋,從而得知芯片在貼片過程中的受壓狀態(tài)。線性伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)可提供貼片頭超過10N的貼片壓力,壓力伺服控制反饋系統(tǒng)可提供0.05N壓力控制精度。

脈沖加熱器(Pulse Heater)可提供每秒超過100度的升溫速率,以及超過50度/秒的降溫速度,這樣從約400度(貼片過程中的最高溫度)降到待機(jī)150度只需5秒左右。快速升溫降溫能力可以避免過多的熱量持續(xù)加載給基板,并且顯著縮短貼片所需時(shí)間。

加熱單元中的組件得到充分工程優(yōu)化,有良好的溫度均一性,以及100度/秒的升溫速率下,在22mm x 33mm區(qū)域內(nèi)加熱塊表面的溫度差異不超過10度。由此保證了芯片和基板的接觸面錫球可以同步熔化。

貼片頭使用的芯片吸頭(Nozzle)為片狀,尺寸與芯片尺寸匹配,材質(zhì)為單晶,有極佳的導(dǎo)熱性能,內(nèi)有真空通道,可以將芯片牢牢吸附固定,且芯片吸頭可以自動(dòng)更換,可實(shí)現(xiàn)同一個(gè)基板貼裝若干尺寸不同的芯片。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖8)

圖7,焊接裝置示意圖(顯示貼片頭到焊接平臺(tái)堆疊細(xì)節(jié))

涂覆有液態(tài)助焊劑(Flux)的基板真空固定在加熱板(Pedestal)上,加熱板所在的平臺(tái)(Bond Stage)坐落在空氣軸承之上,在線性伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行無摩擦的水平移動(dòng)。加熱板最高可被加熱到200度,在基板的貼片過程中可以精準(zhǔn)控制基板的溫度。芯片和基板通過上下同軸的高分辨率的相機(jī)系統(tǒng)對(duì)位(Up Looking and Down Looking Optics),該相機(jī)系統(tǒng)是熱控設(shè)計(jì),可避免圖像因高溫畸變,如圖8所示。高精度的相機(jī),以及無摩擦氣墊運(yùn)動(dòng)的基板平臺(tái),保證了芯片和基板的極小的水平位置偏差,22mm x 33mm的芯片的偏移可小于2.5um且滿足Cpk 1.33。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖9)

圖8,焊接裝置示意圖(顯示平臺(tái)和設(shè)備內(nèi)腔)

貼片頭,光學(xué)相機(jī)板以及真空加熱板都位于密閉的腔體內(nèi),如圖8所示。冷卻板(Cooling Plate)將整個(gè)腔體分為上方的大的惰性氣體腔(Macro Inter Chamber)和小的惰性氣體腔(Micro Inert Chamber),冷卻板的正中央有一個(gè)開孔,貼片頭的芯片通過此開孔與基板結(jié)合。冷卻板可以防止下方大尺寸的加熱板的熱量傳遞到上方腔體,以避免影響貼片頭和光學(xué)相機(jī)板的功能。芯片轉(zhuǎn)移臂把芯片轉(zhuǎn)運(yùn)到冷卻板的中央開孔處,之后貼片頭向下運(yùn)動(dòng)將芯片吸起,芯片轉(zhuǎn)移臂復(fù)位后,貼片頭進(jìn)一步向下運(yùn)動(dòng),穿過中央開孔,將芯片貼置于基板上。上方密封腔充滿了氮?dú)?N2),將氧氣的濃度控制在100ppm以下,以防止芯片在加熱過程中的氧化。同時(shí)下方密封腔也有氮?dú)鈿饬?,氧氣的濃度同樣控制?00ppm以下,以保護(hù)基板在加熱過程中不被氧化。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖10)

圖9,共面性測(cè)量

基板加熱板(Pedestal)和貼片頭的加熱體(heater)的下表面之間的共面性是通過一對(duì)高精度的電容型傳感器(Capacitive Sensors)測(cè)量的,該測(cè)量系統(tǒng)申請(qǐng)了專利(專利號(hào):US8875979B2),如圖9所示。電容傳感器內(nèi)置于光學(xué)相機(jī)板之上,可隨著相機(jī)板以在貼片頭和加熱板之間水平移動(dòng)。上下傳感器成對(duì)同步工作,分別測(cè)量上方到貼片頭的距離和下方到加熱板的距離,兩個(gè)距離之和為貼片頭和加熱板點(diǎn)對(duì)點(diǎn)的距離。隨著水平方向的移動(dòng),可測(cè)量整個(gè)共面性。實(shí)際應(yīng)用中,取芯片所在區(qū)域的4個(gè)角落(A,B,C,D)進(jìn)行測(cè)量,用4個(gè)間距的最大差值來衡量共面度。貼片頭的主動(dòng)傾斜系統(tǒng)可將貼片頭適度傾斜,使貼片頭與下方加熱板平行,滿足微米級(jí)的共面度,這樣芯片和基板之間的整體距離可以達(dá)到一致。

  1. 量產(chǎn)(HVM)過程中控制貼片質(zhì)量的要素及優(yōu)化

如圖10為TCB封裝的產(chǎn)品凸點(diǎn)錫焊鍵合的剖面圖,芯片-基板間距控制良好,焊接過程不超過4秒。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖11)

圖10,TCB焊接剖面圖

基板和芯片將賦予不同的加熱溫度,以減少兩者的膨脹效應(yīng)差距?;逯饕蓴?shù)層有機(jī)材料構(gòu)成,其翹曲效應(yīng)受溫度的變化影響較大,而芯片的形變則顯著低于基板。基板的加熱溫度保持在較低的程度(如140度左右),而芯片則在脈沖加熱器的作用下快速加熱(超過100度/秒)和快速降溫(超過50度/秒),這樣可以顯著減少熱量傳導(dǎo)給基板,貼片過程中基板可持續(xù)保持在較低的溫度而不會(huì)過度膨脹。

其他一些有助于貼片質(zhì)量的工藝優(yōu)化:1. 在芯片與基板對(duì)位之前,芯片已經(jīng)被加熱到待機(jī)溫度(約220度);2. 對(duì)位光學(xué)相機(jī)是熱控設(shè)計(jì)的,可以保證高溫測(cè)量的精度;3. 基板加熱板的真空通路系統(tǒng)與基板有著良好的圖案匹配度,基板在加熱狀態(tài)下可適度軟化,在強(qiáng)力真空作用下貼合更平整,共面度更高。

TCB貼片頭垂直方向選用了ZERODUR光柵尺,以提供高精度的垂直位置控制,從而能夠精準(zhǔn)的識(shí)別到錫球固液相變以及隨后的精細(xì)位移控制。貼片頭與基板加熱板的熱膨脹校準(zhǔn),用以補(bǔ)償貼片頭的垂直移動(dòng)距離,從而更進(jìn)一步提高精度,尤其是在固液相變以及錫液界面收縮過程中。每顆芯片在貼裝過程中都會(huì)檢測(cè)共面度,并反饋給貼片頭主動(dòng)傾斜補(bǔ)償,以滿足3um的共面度。在芯片和基板之間的錫焊完全固化前,提前釋放真空吸附的芯片也可導(dǎo)致芯片翹起失效。適當(dāng)增加貼片頭的等待時(shí)間可以有效避免該失效。另外一種替代方法,即通過壓力傳感器的信號(hào)監(jiān)測(cè)錫焊固化。冷卻過程中,錫焊固化會(huì)將貼片頭向下牽扯,表現(xiàn)為張力信號(hào)的增加。

  1. 量產(chǎn)中的工藝過程控制

為了滿足可靠量產(chǎn)的需要,不同的TCB之間的輸入輸出經(jīng)過校準(zhǔn)后,其性能可都到一致性匹配。這樣生產(chǎn)同一個(gè)產(chǎn)品時(shí),所有的TCB設(shè)備會(huì)下載相同的工藝參數(shù),不需要針對(duì)某一臺(tái)TCB設(shè)備再單獨(dú)設(shè)置。應(yīng)用PCS(過程控制系統(tǒng))監(jiān)測(cè)重要的工藝指標(biāo)參數(shù)。如果指標(biāo)參數(shù)與目標(biāo)值嚴(yán)重背離(如貼片頭的壓力,高度和溫度等),PCS系統(tǒng)會(huì)將設(shè)備自動(dòng)停止,并指導(dǎo)操作員做出相應(yīng)的響應(yīng)。PCS系統(tǒng)之外還集成了統(tǒng)計(jì)分析能力,可以反映每臺(tái)設(shè)備的性能趨向,用于決定是否觸發(fā)設(shè)備維護(hù)。充分利用強(qiáng)大的日志文件。貼片過程中的日志文件可以有效反映生產(chǎn)過程中的各種缺陷,如外來異物,助焊劑不足等等(如圖11,圖12所示),方便操作人員及時(shí)定位失效原因并給予修復(fù)。

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖12)

圖11異常焊接記錄顯示當(dāng)出現(xiàn)其它物質(zhì)時(shí)的曲線圖

英特爾公司的先進(jìn)封裝之TCB工藝及設(shè)備詳述(圖13)

圖12異常焊接記錄顯示當(dāng)出現(xiàn)助焊劑不足時(shí)的曲線圖

寫在最后,英特爾公司采用的全新的TCB技術(shù)讓人眼前一亮,在封裝領(lǐng)域匹配了晶圓設(shè)備的性能。然而該工藝的特點(diǎn)以及精密的部件注定其成本不會(huì)低廉,維護(hù)諸多不易,應(yīng)用場(chǎng)景較為苛刻。相信隨著ASMPT公司對(duì)該設(shè)備的進(jìn)一步優(yōu)化且簡(jiǎn)化,并深度客戶定制,業(yè)界采用該技術(shù)用于量產(chǎn)的公司會(huì)越來越多。

先進(jìn)封裝設(shè)備類似前道晶圓制造設(shè)備,供應(yīng)商受益先進(jìn)封測(cè)產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)。隨著先進(jìn)封裝的發(fā)展,Bumping(凸塊)、Flip(倒裝) 、TSV 和 RDL(重布線)等新的連接形式所需要用到的設(shè)備也越先進(jìn)。以長(zhǎng)球凸點(diǎn)為例,主要的工藝流程為預(yù)清洗、UBM、淀積、光刻、焊料 電鍍、去膠、刻蝕、清洗、檢測(cè)等,因此所需要的設(shè)備包括清洗機(jī)、PVD 設(shè)備、光刻機(jī)、 刻蝕機(jī)、電鍍?cè)O(shè)備、清洗機(jī)等,材料需要包括光刻膠、顯影劑、刻蝕液、清洗液等。為促進(jìn)行業(yè)發(fā)展,互通有無,歡迎芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、裝備、材料等產(chǎn)業(yè)鏈上下游加入艾邦半導(dǎo)體先進(jìn)封裝產(chǎn)業(yè)鏈交流群。


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